1. Littérature générale
  2. Essais littéraires

EAN13
9783838181011
Éditeur
Univ Européenne
Date de publication
11 juin 2012
Collection
OMN.UNIV.EUROP.
Nombre de pages
232
Dimensions
22 x 15 cm
Poids
347 g
Langue
fre

Elaboration De Couches De Tin Par Dépôt Chimique En Phase Gazeuse, Etude De La Croissance Et Caractérisation

Hélène De Baynast

Univ Européenne

Prix public : 69,00 €

Ce travail porte sur l'élaboration et la caractérisation des films de nitrure de titane déposés sur silicium par CVD à partir des précurseurs : tétrachlorure de titane (TiCl4), ammoniac (NH3) et hydrogène (H2). Les films sont réalisés dans un réacteur basse pression à chauffage rapide (RTLPCVD). Deux procédés de dépôt ont été proposés : un monocycle et un multicycle, ainsi que deux groupes de paramètres : le groupe 1 avec une haute température de dépôt (800°C) et une phase gazeuse riche en ammoniac et le groupe 2 avec une faible température de dépôt (500°C) et une phase gazeuse pauvre en ammoniac. L'étude des coefficients de sursaturation et des énergies libres de surface a permis de calculer les rayons des germes critiques. Des hypothèses sur les modes de croissance ont été émises : la germination des couches élaborées avec les paramètres du groupe 1 se ferait selon le mode de germination 2D-3D alors que la germination des groupes élaborées avec les paramètres du groupe 2 se ferait selon le mode de croissance 3D. Les dépôts ont été caractérisés par diffraction X, RBS, XPS, mesure de résistivité, spectrocolorimétrie, rugosité de surface et comportement tribologique.
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